Technologie magnetronového naprašování

Technologie magnetronového naprašování má následující výhody · rychlost nanášení je velká. Díky vysokorychlostní magnetronové elektrodě je získaný tok iontů velký, což účinně zlepšuje rychlost nanášení a rychlost naprašování procesu potahování. Ve srovnání s jinými procesy naprašování má magnetronové naprašování vysokou výrobní kapacitu a velký výkon a je široce používáno v různých průmyslových výrobách. · Vysoká energetická účinnost. Magnetronový rozprašovací terč obecně volí napětí v rozsahu 200 V-1000V, obvykle 600 V, protože napětí 600 V je právě v nejvyšším efektivním rozsahu energetické účinnosti. · Nízká energie rozprašování. Magnetronové cílové napětí je aplikováno nízké a magnetické pole omezuje plazma v blízkosti katody, což zabraňuje částicím nabitým vyšší energií v dopadu na substrát. · Teplota substrátu je nízká. Anodu lze použít k odvedení elektronů generovaných při výboji, aniž by bylo nutné uzemnit nosič substrátu, což může účinně snížit ostřelování substrátu elektrony, takže teplota substrátu je nízká, což je velmi vhodné pro některé plastové substráty nátěry, které nejsou příliš odolné vůči vysokým teplotám. · Nerovnoměrné leptání na povrchu magnetronového naprašovacího terče. Nerovnoměrné povrchové leptání magnetronového rozprašovacího terče je způsobeno nerovnoměrným magnetickým polem terče a rychlost lokálního pozičního leptání terče je velká, takže efektivní míra využití terče je nízká (pouze 20 %-30 % míra využití). Pokud tedy chcete zlepšit míru využití cíle, musíte určitými prostředky změnit rozložení magnetického pole nebo použít magnet k pohybu v katodě, což může také zlepšit míru využití cíle. · Složený cíl. Lze vyrobit kompozitní film ze slitiny cílového pokovování. V současné době byly slitiny Ta-Ti, (Tb-Dy) -Fe a slitiny Gb-Co úspěšně pokovovány procesem kompozitního magnetronového naprašování. Existují čtyři druhy kompozitních cílových struktur, kterými jsou kulatý mozaikový terč, čtvercový mozaikový terč, malý čtvercový mozaikový terč a vějířový mozaikový terč, mezi nimiž je cílová struktura vějířové mozaiky nejlepší. · široký rozsah aplikací. Magnetronovým naprašováním lze nanést mnoho prvků, běžné jsou Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO atd. Technologie magnetického kontrolního povlakování je jedním z nejpoužívanějších procesů povlakování pro mnoho vysoce kvalitních filmových technologií, s různými typy filmů, silnou regulovatelností tloušťky filmu, vysoká přilnavost filmu, dobrá hustota a velmi krásná povrchová úprava.

Společnost IKS PVD, dekorativní lakovací stroj, nástrojový lakovací stroj, DLC lakovací stroj, optický lakovací stroj, PVD vakuová lakovací linka, projekt na klíč je k dispozici. Kontaktujte nás nyní, E-mail: iks.pvd@foxmail.com