Jakou roli hraje chladič v procesu vakuového lakování?
Apr 17, 2019| Jakou roli hraje chladič v procesu vakuového lakování?
Pracovní princip vakuového nátěru spočívá v tom, že se těleso filmu vypařuje a padá na povrch obrobku, aby krystalizoval při vysoké teplotě . Vzhledem k tomu, že vzduch na odpařování membránových molekul bude produkovat rezistenci způsobenou kolizí krystalů, které se stanou drsnými matnými, tak musí být ve vysokém vakuu, aby krystal byl jemný a jasný, pokud podtlak není vysoký krystal, ztrácí lesk a špatnou vazbu platnost. Včasné vakuové povlakování je závislé na odpaření přírodního rozptylu v kombinaci s nízkou účinností nízkého lesku. Nyní, kromě středního kmitočtového magnetronového rozprašovacího terče, jsou odpařující se molekuly tělesa filmu urychleny, aby bombardovaly cílový materiál působením elektrického pole s magnetronovým terčem, a velké množství cílových atomů je rozprášeno a neutrální cílové atomy (nebo molekuly) jsou uloženy na substrátu za vzniku filmu, který řeší problém odrůdy filmového těla, která nemůže být zpracována přirozeným odpařováním v minulosti, jako je pokovování titanem a zirkoniem a tak dále.
Pokud zařízení musí přidávat chladicí vodu, protože jeho vysokofrekvenční proud. Když proud proudí v vodiči, dochází k efektu kůže a náboj se bude hromadit v povrchové oblasti vodivosti, takže se vodivost zahřívá. Z tohoto důvodu se trubice střední díry používá jako vodič a voda se přidává k jejímu chlazení.
Proč vodní chlazení? Magnetronové rozprašovací elektrody produkují vysoké teploty během startu, které deformují pistoli, takže má bundu na chlazení pistole. Současně existuje další důležitý důvod, proč lze magnetronové naprašování považovat za jeden z vynikajících výsledků z * v technologii potahování. Má vysokou rychlost rozprašování, nízký vzrůst teploty podkladu a dobrou přilnavost k filmu.
Jsou diskutovány obecné principy magnetronového naprašování a příčná nestejnoměrnost a symetrie magnetického pole. Magnetronové naprašování lze považovat za jeden z vynikajících výsledků z * v technologii potahování. Vyznačuje se vysokou rychlostí rozprašování, nízkým vzrůstem teploty podkladu, dobrou přilnavostí k filmu a stabilním výkonem zařízení.
Chladicí zařízení je vodní chladicí zařízení, může poskytnout konstantní teplotu, konstantní proud, konstantní tlak chladicí vody zařízení.je to pracovní princip je vstřikování určitého množství vody do vodní nádrže stroje první, chlazení vody chladicí systém a pak odešlete nízkoteplotní chladicí vodu do chladicího zařízení vodním čerpadlem, teplota se zvýší poté, co chladicí voda odejme teplo a pak proudí zpět do nádrže na vodu, aby se dosáhlo chladicího účinku. Teplota chladicí vody může být automaticky nastavena podle požadavků, dlouhodobé používání může ušetřit vodu.
Chladič může regulovat teplotu vakuového nanášecího stroje, aby byla zajištěna vysoká kvalita dílů pokovování. Pokud to není vhodné pro chladicí zařízení, vakuový nátěrový stroj nemůže dosáhnout účelu vysoké přesnosti a vysoké účinnosti regulace teploty, protože přirozený odvod tepla a vody ve věži je nevyhnutelně ovlivněn přirozenou teplotou a tento způsob řízení je velmi nestabilní.
Studené vody stroj má zcela nezávislé chladicí systém, které nejsou ovlivněny teplotou a životní prostředí, teplota vody v 5 ℃ ~ 30 ℃ rozsah nastavení kontroly, a tak dosáhnout účelu regulace teploty a vysoké přesnosti, vysoká účinnost, studené vody stroj je vybaven nezávislým systém recyklace vody.
IKS PVD ， MF （ střední frekvence ） megnetronový rozprašovací stroj ， kontakt ： iks.pvd@foxmail.com
