Technologie nanášení páry

Technologie napařování

Technologie napařování je nová technologie nanášení povlaků, při které se na povrch materiálu fyzikálními nebo chemickými metodami nanášejí páry látek obsahujících nanesené prvky za vzniku tenkého filmu. Podle různých principů procesu nanášení lze technologii napařování rozdělit do dvou kategorií: fyzikální napařování (PVD) a chemické napařování (CVD). Fyzikální depozice z plynné fáze (PVD) označuje technologii odpařování materiálů na atomy a molekul nebo jejich ionizaci na ionty fyzikálními metodami ve vakuu a ukládání tenkého filmu na povrch materiálů prostřednictvím procesu v plynné fázi. Technologie fyzikální depozice zahrnuje především tři základní metody: vakuové napařování, naprašování a iontové pokovování. Vakuové napařování je metoda, při které se filmotvorné materiály odpařují nebo sublimují a ukládají na povrch obrobku za vzniku filmu. Podle různých bodů tání odpařovacího materiálu má způsob ohřevu odporový ohřev, ohřev elektronovým paprskem, laserový ohřev atd. Charakteristiky vakuového odpařování jsou jednoduché zařízení, proces a provoz, ale kvůli nízké kinetické energii odpařených částic je povlak a vazebná síla substrátu slabá a povlak je volný, takže odolnost proti nárazu a odolnost proti opotřebení nejsou vysoké. . Pokovování rozprašováním je metoda ionizace plynného argonu doutnavým výbojem ve vakuu a generované ionty argonu bombardovaly katodu zrychlením působením elektrického pole a částice rozprašování se usazují na povrchu obrobku a vytvářejí film. . Jeho předností je vysoká kinetická energie zplyňovacích částic, široká škála použitelných materiálů (včetně matricových materiálů a nátěrových materiálů) a dobrá schopnost pokovování, ale rychlost depozice je pomalá a drahé zařízení. Iontové pokovování je metoda ionizace odpařené atomové části na ionty technologií plynového výboje ve vakuu a ukládání velkého množství vysokoenergetických neutrálních částic na povrch obrobku za vzniku filmu. Vyznačuje se vysokou kvalitou povlaku, silnou přilnavostí, dobrou schopností pokovování a vysokou rychlostí nanášení, ale existují některé nevýhody, jako je složité zařízení a drahé. Fyzikální napařování má širokou škálu použitelných matricových materiálů a filmových materiálů; Jednoduchý proces, úspora materiálu a bez znečištění; Byly získány výhody silné adheze, jednotné tloušťky, hustoty a menšího počtu dírek. Široce se používá ve strojírenství, letectví, elektronice, optice, lehkém průmyslu a dalších oborech k přípravě odolných proti opotřebení, korozi, teplu, vodivých, izolačních, optických, magnetických, piezoelektrických a hladkých supravodivých filmů.

Společnost IKS PVD, dekorativní lakovací stroj, nástrojový lakovací stroj, DLC lakovací stroj, optický lakovací stroj, PVD vakuová lakovací linka, projekt na klíč je k dispozici. Kontaktujte nás nyní, E-mail:iks.pvd@foxmail.com