Vakuové pokovovací zařízení Nerovnoměrné problémy s tloušťkou filmu

Nezáleží na tom, jak může sledovat pouze přesnost a kontrolu vakuové komory, jednostranná poloha tloušťky filmu je obecně střední poloha rámu obrobku. Není-li tloušťka filmu zařízení pro vakuové pokovování absolutně stejnoměrná, potom nemůže být substrát od střední polohy dosažen jednotnou tloušťkou. Ačkoli ochranný kryt může eliminovat jednotnost výkonu, není dlouhá, ale některé změny v tloušťce filmu se liší od nestability nebo membránového odpařovacího zdroje způsobeného, ​​takže je téměř nemožné ho odstranit, ale správná struktura a zdroj vakuové komory může tyto minimalizace dopadů.

V posledních několika letech stále více uživatelů požaduje, aby výrobci nátěrových systémů poskytovali malý a jednoduchý optický systém nástřiku, současně s vysokým výkonem, uživatelský požadavek na výkonnost se nezmenšuje, ale zvyšuje se zejména v hustotě filmu a zajišťuje voda po minimalizaci spektrálních změn atd.

Nyní byla snížena průměrná velikost systémových specifikací a použití malých rozměrů pro výrobu optických povlaků se také stalo čistě technickým problémem. Klíč proto závisí na výběru moderního systému optického nátěru k následujícím faktorům: vážně zvážit očekávaný výkon produktů povlaku, velikost a fyzikální vlastnosti substrátu a zajistit všechny technické faktory nezbytné pro zpracování vysoké konzistence.