Rozdíl mezi PVD vakuovým iontovým pokovováním a tradičním pokovováním

May 06, 2022|

Rozdíl mezi PVD vakuovým iontovým pokovováním a tradičním pokovováním


Konvenční pokovování vodou

PvD technologie vakuového iontového pokovování

metody

 

V atmosféře, používající elektrolyty jako médium, je proces s vysokým znečištěním

Ve vakuovém prostředí patří plazma jako médium do procesu ochrany životního prostředí

charakteristický

Dobrá rovnoměrnost, lesklý povrch filmu. Ale pouze ve způsobu povlakování, pokrývající povrch bez husté síly vůbec

Kvalita filmu je těsná, rovnoměrnost závisí na struktuře rotačního svítidla

tvrdost

Tvrdost je asi HV900

Tvrdost může dosáhnout více než HV1800

tloušťka

Tloušťka je asi 10krát větší než povlak

Tloušťka mikronové hladiny (μm), vynikající povlak

hustota

Horká expanze a studená kontrakce snadno odpadnou

Diamantový odsazovač o šířce povrchu 0,2 čtverečního mm vydrží svislou hmotnost větší než 10 kg bez odlupování

Tloušťka vakuového povlaku patří k úrovni mikronů, 1 μm odpovídá jedné desetině tradičního galvanického pokovování, takže po operaci povlakování neovlivní přesnost obrobku; Tradiční metodou pokovování je vytvoření vrstvy galvanického povlaku způsobem povlakování a neexistuje vůbec žádná vysoká hustota.

rozdíl ve tvaru filmu mezi PVD vakuovým iontovým pokovováním a galvanickým pokovováním

 

 006060

Tradiční galvanické pokovování Procesní schéma PVD povlakování procesní schéma

 

Obecně platí, že mokrý povlak se provádí potažením tenkého filmu na povrchu, bez ohledu na původní tvar podkladu, povrch filmu bude mít tendenci být plochý. PVD povlak vytvoří vrstvu povlaku na vrcholu průměrného tvaru podkladu, podle výšky tvaru podkladu je odlišný, výška tvaru povlaku je v souladu s původním stavem podkladu.

Společnost IKS PVD, dekorativní nátěrový stroj, potahovací stroj na nástroje, nátěrový stroj DLC, optický povlakovací stroj, vakuová lakovací linka PVD, projekt na klíč je k dispozici. Kontaktujte nás nyní, E-mail:iks.pvd@foxmail.com

 

Odeslat dotaz