Aplikace s vysokým podtlakem, ultravysokým podtlakem a extrémně vysokým podtlakem

Aplikace s vysokým vakuem, ultravysokým vakuem a extrémně vysokým vakuem

Podmínky vysokého vakua jsou běžně vyžadovány v průmyslových a vědeckých oborech, včetně, ale bez omezení, lisování kompozitních plastů, letových přístrojů, vakuových trubic, lékařského ošetření, potahování, hmotnostní spektrometrie, elektronové mikroskopie a dalších.

Oblast použití ultra vysokého vakua je různá. Důležitá oblast použití souvisí s technikami povrchové analýzy, jako je rentgenová fotoelektronová spektroskopie, Augerova elektronová spektroskopie, hmotnostní spektrometrie sekundárních iontů, tepelná desorpční spektroskopie, úhlově rozlišená fotoelektronová spektroskopie, emisní mikroskopie v poli, iontová mikroskopie v poli a atomová tomografie. . Kromě toho se ultravysoké vakuum používá také v technikách růstu a přípravy tenkých vrstev s přísnými požadavky na čistotu, jako je depozice atomární vrstvy, pulzní laserová depozice a epitaxe molekulárního paprsku. Pro všechny tyto aplikace je nutné ultravysoké vakuum ke snížení povrchové kontaminace. V tomto ohledu je důležité si uvědomit, že při tlaku 10-6 mbar trvá kontaminaci pouze 1 sekundu, než pokryje povrch, takže delší experimenty vyžadují nižší tlaky

Společnost IKS PVD, dekorativní lakovací stroj, nástrojový lakovací stroj, DLC lakovací stroj, optický lakovací stroj, PVD vakuová lakovací linka, projekt na klíč je k dispozici. Kontaktujte nás nyní, E-mail: iks.pvd@foxmail.com