Zdroje odpařování mají tři typy

Zdroje odpařování mít tři typy.
1) zdroj odporového vytápění: s žáruvzdornými kovy, jako je wolfram, tantal vyrobený z fólie nebo filamátu, proudem, ohřevem ve výše uvedeném nebo umístěným v odpařovací materiálu kelímku, se zdroj odporového ohřevu používá hlavně k odpařování Cd, Pb, Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni a dalších materiálů;
2. vysokofrekvenční zdroj indukčního vytápění: vysokofrekvenční indukční proud topný kelímek a odpařovací látky;
(3)Zdroj vytápění elektronovým paprskem: vhodný pro vysokou teplotu odpařování (nejméně 2000[618-1]) materiálu, tj. materiálu pro bombardování elektronovým paprskem, aby se odpařil.
Ve srovnání s jinými metodami vakuového povlakování má odpařovací povlak vyšší rychlost depozice a lze jej použít k přípravě složených filmů s elementární látkou a obtížným tepelným rozkladem.
Pro uložení vysoce čistých jednokřitých krystalových filmů lze použít epitaxi molekulárního paprsku. Epitaxní zařízení molekulárního paprsku jednokřičové vrstvy GaAlAs s růstovým dopem. Trysková pec je vybavena zdrojem molekulárního paprsku. Když se zahřeje na určitou teplotu v ultra vysokém vakuu, prvky v peci vystřelí do substrátu v molekulárním proudu. Když se substrát zahřeje na určitou teplotu, molekuly uložené na substrátu mohou migrovat a pěstovat krystaly podle pořadí mřížky substrátu. Vysoce čisté sloučeniny jednokřitelové fólie s požadovaným stoichiometrickým poměrem lze získat metodou epitaxe molekulárního paprsku. Nejpomalejší rychlost růstu filmu lze ovládat při 1 monovrstvě za sekundu. Ovládáním přepážky lze přesně vytvořit požadovanou kompozici a strukturu jediného krystalového tenkého filmu. Epitaxe molekulárního paprsku je široce používána při výrobu různých optických integrovaných zařízení a superlattického strukturních filmů

IKS PVD společnost, dekorativní nátěrový stroj, stroje na polačování nástrojů, optický nátěrový stroj, PVD vakuová nátěrová linka, projekt na klíč je k dispozici. Kontaktujte nás nyní, e-mail: iks.pvd@foxmail.com