Proud oblouku, teplota, předpětí a vazebná síla
Aug 19, 2019| Proud rc, teplota, předpětí a vazebná síla
1. Obloukový proud
Když je proud oblouku nízký, počet iontů je malý, množství energie je nízké, rychlost nukleace je nízká a struktura není hustá. Aby bylo možné pokrýt celou matici, je třeba atomy filmové vrstvy rozptýlit na dlouhou vzdálenost.
Se zvyšováním proudu oblouku se zvyšuje počet iontů v membránové vrstvě, zvyšuje se energie a zvyšuje se hustota tkáně. Atomy filmu nepotřebují difuzi na dlouhé vzdálenosti, aby pokryly celou matici, a zrna filmu jsou malá a pevnost spojení s atomy na povrchu matrice je vysoká
Proud oblouku stále roste, povrch filmu se objevuje příliš mnoho kapiček kapaliny, pevnost filmu, tvrdost klesá, snižuje se přilnavost filmu .
Poznámka: takzvaná velikost proudu oblouku by zde měla být založena na proudu oblouku přizpůsobeném zařízení jako referenčnímu, magnetickému poli, chlazení, cílovému systému atd., Odpovídající proud odpovídající tomuto není stejný. Neexistují žádné odpovídající podrobné informace a uvedené hodnoty jsou pouze informativní.
2. Teplota
Když je depoziční teplota nízká, atomová aktivita filmové vrstvy je nízká, rychlost nukleace je nízká, kompaktnost je špatná, smršťovací dutina je více, vnitřní napětí je špatné, adheze je špatná.
Se zvyšováním teploty se zvyšuje atomová aktivita filmové vrstvy, difúzní schopnost je silná, rychlost nukleace se zvyšuje, hustota je vysoká, smršťovací dutina je nízká, vnitřní napětí je nízké, vazebná síla je vysoká.
Teplota stále stoupá a překračuje temperovací teplotu matrice. Když tvrdost matrice klesá, nemůže hrát silnou podpůrnou roli na filmu, což vede ke snížení adhezní síly filmu.
Otázka: Pokud je teplota matrice dostatečně vysoká, zda se bude vazebná síla nadále zvyšovat?
3. Předpojatost
Se zvýšeným předpětím mají deponované ionty silný bombardovací účinek na atomy na povrchu substrátu, vytvářejí pseudodifúzní vrstvu a zlepšují adhezi filmu. Při procesu formování filmu nepřetržité bombardování filmu vysokoenergetickými částicemi zmenšuje velikost zrna filmu a zvyšuje se hustota nukleace, což způsobuje, že film pokračuje ve vytváření filmu za relativně tenkých podmínek, čímž se zlepšuje vazebná síla .
Nadměrné předpětí vede k přehřátí substrátu, k nadměrnému namáhání v rozhraní se substrátem, když jsou uloženy ionty s vysokou energií, a akce proti rozprašování sníží spojovací sílu filmu.
IKS PVD, specializovaná na technologii vakuového lakování PVD nad 13 let, jakýkoli dotaz, uvítací kontakt: iks.pvd@foxmail.com
