Technologie potahování magnetronovým naprašováním na střední frekvenci

Technologie potahování magnetronovým naprašováním na střední frekvenci

Magnetronové naprašování zahrnuje mnoho typů. Každý má jiný pracovní princip a aplikovaný objekt. Ale mají jednu věc společnou: používají magnetická pole k interakci s elektrony, což je způsobuje spirálu kolem cílového povrchu, což zvyšuje pravděpodobnost, že zasáhnou argon k produkci iontů. Generované ionty se srazí s cílovým povrchem působením elektrického pole a vystříknou cílový materiál. V posledních desetiletích vývoje lidé postupně přijímají permanentní magnety, zřídka magnety s cívkami.

Cílový zdroj je rozdělen na vyvážený a nevyvážený, vyrovnaný cílový zdroj povlaku rovnoměrný, nevyvážený cílový zdroj nátěrové vrstvy a matrice vázající síla je silná. Vyvážené cílové zdroje jsou většinou používány v polovodičových optických filmech, zatímco nevyvážené cíle jsou většinou používány u opotřebovaných dekorativních filmů.

Bez ohledu na rovnováhu nebo nerovnováhu, pokud je magnet stacionární, jeho vlastnosti magnetického pole určují, že obecná míra využití cílového materiálu je menší než 30%. Aby se zvýšila míra využití cíle, může se použít rotující magnetické pole. Rotující magnetické pole však vyžaduje rotační mechanismus a rychlost rozprašování by měla být snížena. Rotující magnetické pole se většinou používá pro velké nebo cenné cíle. Jako naprašování polovodičového filmu. Pro malá zařízení a všeobecná průmyslová zařízení, použití statického magnetického pole cílového zdroje.

Rozprašování kovů a slitin s cílovým zdrojem magnetronu je snadné a zapalování a naprašování je snadné. To proto, že cíl (katoda), plazma a stříkané části / vakuová dutina mohou tvořit smyčku. Pokud je však izolační rozprašovač, jako je keramika, přerušen. Takže lidé používají vysokofrekvenční napájení, obvod přidává velmi silnou kapacitu. Cíl se tak stává kondenzátorem v izolovaném obvodu. Nicméně, vysokofrekvenční magnetronový naprašovací zdroj je drahý, rychlost rozprašování je velmi malá a technologie uzemnění je velmi složitá, takže je obtížné jej používat ve velkém měřítku. K vyřešení tohoto problému bylo vynalezeno magnetronové reaktivní naprašování. Jedná se o kovový terč s argonem a reaktivními plyny, jako je dusík nebo kyslík. Když se kovový terč srazí s částí, spojí se s reakčním plynem za vzniku nitridů nebo oxidů v důsledku přeměny energie.

Magnetronové reaktivní naprašovací izolátory se zdají být snadné, ale obtížně se ovládají. Hlavní problém spočívá v tom, že reakce probíhá nejen na povrchu dílu, ale také na anodě, na povrchu vakuové dutiny a na povrchu cílového zdroje. Tím dochází k požáru, cílovému zdroji a oblouku povrchu obrobku a tak dále. Technologie dvojího cílového zdroje vynalezená Německem laibao tento problém dobře řeší. Princip spočívá v tom, že pár cílových zdrojů je anoda a katoda pro eliminaci oxidace anodického povrchu nebo nitridování.

Chlazení je nezbytné pro všechny zdroje (magnetron, multi-oblouk, iont), protože velká část energie je přeměněna na teplo, které, pokud není ochlazeno nebo není dostatečně vychlazeno, roztaví celý cílový zdroj při teplotě vyšší než je tisíc stupňů.

Magnetické řídicí zařízení je často velmi drahé, ale lidé mají tendenci utrácet peníze za jiná zařízení, jako je vakuová pumpa, MFC, měření tloušťky filmu a ignorují cílový zdroj. Dobré magnetronové naprašovací zařízení bez dobrého cílového zdroje je jako kreslení draka bez hrotu.

Výhody středofrekvenčního rozprašování jsou hladké a husté, vysoká tvrdost filmové vrstvy, lineární růst tloušťky filmu, netoxické, mírné zvýšení teploty, ale požadavky na zařízení jsou vysoké, rozsah pracovních tlaků je velmi úzký a různé kontroly požadavky jsou rychlé a přesné.

Multi-obloukové naprašování aplikovalo malé napětí a velký proud na cílovém materiálu ionizovat materiál (pozitivně nabité částečky), tak bít do substrátu (záporně nabitý) u vysoké rychlosti a ukládání, tvořit hustý film tvrdý film. Používá se především pro otěruvzdorný a korozi odolný film. Nevýhodou je, že film není jednotný, kavitace a ablace.

Princip mezifrekvenčního naprašování s obecným naprašováním stejnosměrným proudem je stejný, rozdíl je stejnosměrné naprašování válce, když je anoda, a rozprašování mezifrekvenčního rozprašování ve dvojicích, barel, ať už závisí na celkové konstrukci, a na celém procesu rozprašování celého systému, uspořádání anody, katody, existuje mnoho způsobů, jak se podílet na poměru cyklu, lze získat různé způsoby rozdílného výtěžku rozprašováním, nejsou stejné hustoty iontů

Hlavní technologie, pokud rozprašování spočívá v návrhu a aplikaci napájení. V současné době jsou sinusové a pulzní čtvercové vlny dva druhy výstupních režimů, které mají své vlastní výhody a nevýhody. Za prvé, typy vrstev filmu by měly být zvažovány pro analýzu, jaký typ výstupního režimu napájení je vhodný pro jakou vrstvu filmu.

Mezioperační rozprašování je také druh magnetronové naprašování, obecné magnetronové rozprašování cíl design, design magnetické pole je klíčem různých technologií, mezinárodní několik známých výrobců rozprašovací cíl, pro návrh cílové magnetické pole je profesionální, změna konstrukce magnetického pole může mít různé plazmatické odpařování. Dráha elektronu, distribuce plazmy, stejně jako technické tajemství rozprašování cílového magnetického pole.

Co se týče katodového oblouku (tj. Iontové pokovování), magnetronového naprašování a odpařování kelímku, všechny patří k PVD (fyzikální depozice par), odpařování kelímku je hlavně fázová změna a cíl odpařování má pouze několik elektronových voltů energie. Proto je přilnavost filmu malá, ale vysoká rychlost nanášení, většinou používaná pro optické potahování. V magnetronovém naprašování dopadají ionty argonu na cílový materiál a ukládají atomové a molekulární fragmenty na části a kinetická energie cílového materiálu může dosáhnout stovek nebo dokonce tisíců elektronových voltů. Jedná se o skutečně neutrální nanoúrovňový nátěr. Po katodovém obloukovém oblouku, na jedné straně, je metalurgie materiálu roztavena cílovým povrchem při vysoké teplotě a pak je roztavený materiál téměř úplně ionizován silným elektrickým polem a film je vytvořen pod kombinovaným působením. cílového napájení a částečného tlaku součástí. Vypadá to, že katodový oblouk je pokročilejší, vlastně není. Za prvé, proces roztavení cílového povrchu je náhodný a nekontrolovatelný a ionty se ukládají do částí. Rovnoměrnost a hladkost pokovování je obtížné zaručit. Obecně řečeno, katodové obloukové pokovování je proces svařování ve vakuu. Princip napájení z katodového oblouku a svařovacího zdroje je velmi podobný. Technologie katodového oblouku pochází především z bývalého Sovětského svazu. To je populární v Číně z různých důvodů. Technologie se však zlepšuje. V posledních letech se technologie filtrace katodového oblouku rychle vyvinula, což zabraňuje nevýhodě nerovnoměrné tvorby filmu. Některé zisky však musí být ztraceny a filtrace snižuje rychlost depozice a zvyšuje náklady na zařízení.

Středněfrekvenční magnetronové naprašování vyžaduje vysoký cíl a magnetické pole a pracovní tlak. Středněfrekvenční magnetronové naprašování je 2 až 3 krát stejnosměrné naprašovací rychlosti. Střední magnetronové naprašování se používá pro dva cíle pro přípravu složených filmů. Vzhledem ke své nízké ionizační rychlosti je obtížné najít optimální bod otravy a regulace průtoku pracovního plynu je velmi přísná. Pokud kontrola není dobrá, je obtížné připravit jednotnou a dobrou adhezní fólii. A design je hlavně jednotnost magnetického pole rozložení magnetického pole může zlepšit využití cílového materiálu, takže kromě stability nejlepší otravy některé práce má také hodně ke zlepšení magnetronu rozprašování iontové energie a difrakce jsou daleko pod obloukovým terčem a vzdálenost obrobku je důležitá, příliš blízko k iontovému bombardování artefaktů může poškodit membránovou vrstvu, příliš daleko, odchylka od optimálního rozprašovacího povlaku vazebná síla přípravy vzdálenosti je velmi špatná

Cílový materiál, pokud je použit pro cíl, některé z nich jsou použity pro tři páry. Cíl je poměrně velký, pokud je většina z nich použita pro obrobky pokovené. Taková vakuová pec je obecně vyrobena větší, což může odložit mnoho úkolů a vrstva pokovené fólie je hustší.

Zajímáte se o stroj se středním kmitočtovým magnetickým naprašováním, kontakt s IKS PVD, iks.pvd @ foxmail.com

Pokud může rozprašování pracovat za nízkého vakua? Žádný problém. Náš aktuální program je 8,0 * 10-2pa.

Jaké jsou faktory ovlivňující barvu TiN filmu, když se rozprašováním? Jaký je vliv zkreslení na L, a a b?

Bias má hodně co do činění s barvou,

Vliv tlaku rozprašovacího plynu (argonu) na hodnoty L, a a b?

Tento problém je komplikovaný, což souvisí s ionizační rychlostí, tlakovým a cílovým propojovacím režimem. Systematizovat velmi jasná data může trvat poměrně dlouho. Je třeba říci, že rozprašovací plyn a barva musí být určovány vyrobeným množstvím rozprašování, které ovlivňuje vztah s reakčním plynem a má vliv na barvu.

Je možné použít amoniak v reaktivním rozprašování? Ano.