Různé účely zpracování lze dosáhnout řízením hustoty energie elektronového paprsku a doby vstřikování energie

Různé účely zpracování lze dosáhnout řízením hustoty energie elektronového paprsku a doby vstřikování energie:

1. Tepelné zpracování elektronovým paprskem lze provést pouze tehdy, je-li materiál lokálně zahříván;
2. Pro svařování elektronovým paprskem lze použít místní tavení materiálů;
3. Zvyšte energetickou hustotu elektronového paprsku, roztavte a odpařte materiál a poté děrujte, stříhejte a tak dále;
4. Litografii elektronovým paprskem lze provést pomocí principu chemických změn, když elektronový paprsek bombarduje polymerní materiály s nízkou energetickou hustotou.

IKS PVD Stroj na optické nanášení elektronovým paprskem ， IKS-OPT2700, Další podrobnosti, vítejte kontakt iks.pvd@foxmail.com